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V1

窒素ガス発生装置


V1:窒素ガス発生装置

製品概要・特徴

ノンタービン方式を用いた高純度窒素ガス発生装置です。ノンフロン化の実現に対応しており、一つの外槽内に精留塔・コンデン
サー・熱交換器・CEまでを組み込み、動力室が一体となったユニットによるコンパクト設計になっています。

用途

液晶・プラズマディスプレイ・半導体・太陽電池工場等へのオンサイトガス供給

仕様

項目 窒素ガス V1E 窒素ガス V1D
発生量(Nm3/hr) 2800~3600 4000~35000
純度(%) 99.999 99.999

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