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V2 & V3

酸素ガス発生装置 & 酸素ガス・窒素ガス併産型発生装置


V2:酸素ガス発生装置
V3:酸素ガス・窒素ガス併産型発生装置

製品概要・特徴

V1の機能をベースに開発された酸素ガス専用の発生装置であるV2と、酸素ガス・窒素ガス併産を特徴とするV3は、ノンタービン
方式の深冷分離オンサイトプラントです。

用途

製鉄所・ガス化溶融炉・液晶・プラズマディスプレイ・半導体・太陽電池・ガラス工場等へのオンサイトガス供給

仕様

項目 酸素ガス 窒素ガス
発生量(Nm3/hr) 300~5000 300~12500
純度(%) 93~99.8 99.999

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