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大型ガス発生装置製作V1X:小型窒素ガス発生装置
製品概要・特徴
ノンタービン方式を用いた高純度窒素ガス発生装置です。ノンフロン化の実現に対応しており、一つの外槽内に精留塔･コンデン
サー･熱交換器･CEまでを組み込み、動力室が一体となったユニットによるコンパクト設計になっています。
用途
液晶･プラズマディスプレイ･半導体･太陽電池工場等へのオンサイトガス供給
仕様
| 項目 | 窒素ガス |
|---|---|
| 発生量(Nm3/hr) | 150～2350 |
| 純度(％) | 99.999 |
| 項目 | 窒素ガス |
|---|---|
| 発生量(Nm3/hr) | 150～2350 |
| 純度(％) | 99.999 |