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VHR

新型水素ガス発生装置


VHR:新型水素ガス発生装置

製品概要・特徴

熱中和方式を用いた新改質技術で、従来の外部熱供給方式と異なり、原料中に酸素を加え、発熱反応である酸化・吸熱の両反応の水蒸気改質反応を同一触媒上で行う水素発生装置です。真空再生方式によって回収率90%以上を実現しています。大型加熱炉を不要とし、温室効果ガス排出を低減しました。

用途

光ファイバー・鉄鋼・太陽電池工場等へのガスオンサイト設備

仕様

項目 VH-10 VH-20
発生量(Nm3/h) 40~100 80~200
純度(%) 99~99.999 99~99.999
項目 VH-30 VH-40
発生量(Nm3/h) 120~300 160~400
純度(%) 99~99.999 99~99.999
項目 VH-50 VH-100
発生量(Nm3/h) 200~500 400~1000
純度(%) 99~99.999 99~99.999

本製品に関する情報はエア・ウォータークライオプラントまでお問合せください。

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