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エア・ウォーター・エンジニアリング株式会社
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VHR
新型水素ガス発生装置
オープン
アプリケーションテクノロジー
APPLICATION TECHNOLOGY
超低温/LNG関連エンジニアリング
LOW TEMPERATURE / VACUUM
半導体関連エンジニアリング
SEMIMCONDUCTOR
産業ガス関連エンジニアリング
INDUSTRY
大型ガス発生装置製作
GAS
VHR:新型水素ガス発生装置
製品概要・特徴
熱中和方式を用いた新改質技術で、従来の外部熱供給方式と異なり、原料中に酸素を加え、発熱反応である酸化・吸熱の両反応の水蒸気改質反応を同一触媒上で行う水素発生装置です。真空再生方式によって回収率90%以上を実現しています。大型加熱炉を不要とし、温室効果ガス排出を低減しました。
用途
光ファイバー・鉄鋼・太陽電池工場等へのガスオンサイト設備
仕様
項目
VH-10
VH-20
発生量(Nm3/h)
40~100
80~200
純度(%)
99~99.999
99~99.999
項目
VH-30
VH-40
発生量(Nm3/h)
120~300
160~400
純度(%)
99~99.999
99~99.999
項目
VH-50
VH-100
発生量(Nm3/h)
200~500
400~1000
純度(%)
99~99.999
99~99.999
本製品に関する情報はエア・ウォータークライオプラントまでお問合せください。
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