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エア・ウォーター・エンジニアリング株式会社
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V1
窒素ガス発生装置
オープン
アプリケーションテクノロジー
APPLICATION TECHNOLOGY
超低温/LNG関連エンジニアリング
LOW TEMPERATURE / VACUUM
半導体関連エンジニアリング
SEMIMCONDUCTOR
産業ガス関連エンジニアリング
INDUSTRY
大型ガス発生装置製作
GAS
V1:窒素ガス発生装置
製品概要・特徴
ノンタービン方式を用いた高純度窒素ガス発生装置です。ノンフロン化の実現に対応しており、一つの外槽内に精留塔・コンデン
サー・熱交換器・CEまでを組み込み、動力室が一体となったユニットによるコンパクト設計になっています。
用途
液晶・プラズマディスプレイ・半導体・太陽電池工場等へのオンサイトガス供給
仕様
項目
窒素ガス V1E
窒素ガス V1D
発生量(Nm
3
/hr)
2800~3600
4000~35000
純度(%)
99.999
99.999
本製品に関する情報はエア・ウォータークライオプラントまでお問合せください。
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