アプリケーションテクノロジー
超低温/LNG関連エンジニアリング
半導体関連エンジニアリング
産業ガス関連エンジニアリング
大型ガス発生装置製作V2:酸素ガス発生装置
V3:酸素ガス･窒素ガス併産型発生装置
製品概要・特徴
V1の機能をベースに開発された酸素ガス専用の発生装置であるV2と、酸素ガス･窒素ガス併産を特徴とするV3は、ノンタービン
方式の深冷分離オンサイトプラントです。
用途
製鉄所･ガス化溶融炉･液晶･プラズマディスプレイ･半導体･太陽電池･ガラス工場等へのオンサイトガス供給
仕様
| 項目 | 酸素ガス | 窒素ガス |
|---|---|---|
| 発生量(Nm3/hr) | 300～5000 | 300～12500 |
| 純度(％) | 93～99.8 | 99.999 |