CMPスラリー調合供給システム
Mega fluid System社の基本技術を基に、開発・設計・製造を当社で行い、お客様のニーズに最適なシステムを提供します。高いスラリー調合精度とスラリー性状(濃度、粒子サイズ)の安定維持供給を実現します。集中供給システムは、365日24時間の安定供給を実現したシステムです。
用途
半導体生産のCMP設備及びガラス、シリコンなどの基板生産の研磨設備向けにスラリー薬液を調合して供給する設備
仕様
製品ラインアップ
・CMP装置集中システム
・CMP装置研究開発用ローカル供給システム
・過硫酸アンモニウム(APS)粉末集中供給システム
・界面活性剤加圧圧送集中供給システム
・過酸化水素水(H2O2)自動濃度測定・補充システム(ATRS)
・監視制御データ収集システム(SCADA)
・CMP装置集中システム
・CMP装置研究開発用ローカル供給システム
・過硫酸アンモニウム(APS)粉末集中供給システム
・界面活性剤加圧圧送集中供給システム
・過酸化水素水(H2O2)自動濃度測定・補充システム(ATRS)
・監視制御データ収集システム(SCADA)